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Sicheltanne - Cryptomeria japonica

Sicheltanne - Cryptomeria japonica

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Der Wuchs der Sicheltanne ist locker und aufrecht. Die Endwuchshöhe der Sicheltanne liegt bei etwa 15 Metern. Von Februar bis März trägt die Sicheltanne eine unscheinbare Blüte. Nach der Blütezeit bilden sich kugelförmige Zapfen an der Pflanze. Am liebsten steht sie an einem sonnigen bis absonnigen und geschütztem Standort. Sie bevorzugt frische und lehmige Böden.
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Eigenschaften

  • Besonderes

    • Züchter: -
    • Ökologie: -
    • Klimapflanze: -
    • Winterhärte (1-5) : - 3.0
    • Frosthärte: -bis max. -20 Grad
    • Spätfrostgefährdet: -spätfrostgefährdet

  • Wuchs & Verwendung

    • Wuchs: - breit kegelförmig (im Alter), schmal kegelförmig (jung), kompakt oder locker,Baum
    • Wuchshöhe: - 10,0 - 20,0 m hoch; am Naturstandort: 30,0 - 50,0 m hoch

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    • Verwendung: - Einzelstellung, japanische Gärten, Küstenstandort, für Schnitt geeignet, Steingarten

  • Standort - Boden & Licht

    • Licht: - absonniger bis lichtschattiger Standort bevorzugt
    • Bodenart: - sandig bis lehmig-tonig
    • Bodenfeuchte: - frisch bis feucht
    • ph-Wert: - sauer bis neutral

  • Blüte & Blatt

    • Blüte: - Februar bis März
    • Duft: -
    • Laubphase: -
    • Blatt: - ,ganzrandig,lang zugespitzt
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